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工業(yè)廢水處理循環(huán)利用零排放解決方案服務商

依斯倍助力中國綠色制造

淺析半導體廢水處理的特點

來源:蘇州依斯倍環(huán)保裝備科技有限公司 發(fā)布日期 2021.02.01 16:56

電子半導體 同行選擇


       伴隨著半導體廢水處理技術的快速發(fā)展和消費需求的增加,半導體廠排出的含氟廢水急劇增加,產(chǎn)生的絡合離子種類增多。各工序所處理的廢水各不相同,其中腐蝕基材廢水以氫氟酸為主,排放量最大。為防止此類廢水對環(huán)境和生態(tài)造成污染和破壞,必須努力降低廢水氟含量。

 

       半導體廠的廢水,種類很多,特別是含有機溶劑(用于脫脂和清洗襯底)或含氫氟酸(用于襯底腐蝕) 的氫氟酸廢水,還含有各種化合物。盡管大多數(shù)的有機溶劑得到了回收,但有些仍然混入廢水中。含氟廢水中氟化物含量較高,而含氟廢水中氟含量較低。所以,高、低氟濃度的廢水可以分別處理,也可以混雜在一起處理。


半導體廢水處理

 

       CPS半導體廢水處理 特點包括承受沖擊負荷能力強,采用接觸氧化工藝平均停留時間超過6小時。半導體廢水處理具有除氮除磷的功能,可調整設備結構,實現(xiàn)對工業(yè)、生活和市政污水的處理。接觸氧化池內的填料多為軟填料,具有重量輕、強度高、物理化學性能穩(wěn)定、比表面積大、生物膜附著力強、污水接觸效率高、生物膜多等特點。

【責任編輯】:蘇州依斯倍環(huán)保裝備科技有限公司

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