晶圓研磨是半導體制造過程中的重要環節之一，用于確保晶圓表面的平整度和平滑度。在研磨過程中會使用大量的研磨液和超純水，從而產生含有懸浮物、金屬離子等污染物的廢水。這些廢水如果未經適當處理直接排放，會對環境造成污染。因此，開發高效的晶圓研磨廢水處理回用技術對于環境保護和資源節約具有重要意義。

晶圓研磨廢水通常含有懸浮的研磨顆粒、研磨液添加劑、金屬離子（如銅、鋁等）、以及其它微量有機污染物。這些廢水的特點是成分復雜、懸浮物含量高、污染物種類多樣。

晶圓研磨廢水處理工藝

初級處理

- 預處理：通過格柵、沉淀池等手段去除較大的懸浮物。

- pH調節：調節廢水的pH值，為后續處理創造有利條件。

二級處理

- 化學沉淀：通過加入絮凝劑和助凝劑，促進懸浮物的凝聚和沉淀。

- 離子交換：利用離子交換樹脂去除廢水中的金屬離子。

- 活性炭吸附：使用活性炭去除廢水中的有機物和色度。

深度處理

- 膜過濾：采用超濾（UF）、納濾（NF）或反滲透（RO）等膜技術進一步去除溶解性物質和剩余的懸浮物。

- 高級氧化：使用臭氧、Fenton試劑等高級氧化技術去除難以生物降解的有機物。

晶圓研磨廢水處理回用技術不僅可以減輕對環境的壓力，還能節約水資源，提高企業的經濟效益。通過采用合理的處理工藝，可以有效地控制廢水中的污染物含量，使其滿足回用標準。